超音波洗浄機の選び方

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選び方

産業洗浄には、超音波洗浄のほかに噴流洗浄、バブリング洗浄、シャワー洗浄、揺動洗浄、蒸気(べーパー)洗浄などがあります。それぞれの洗浄においてワークの汚れや要求される洗浄の品質により洗浄方法が異なります。

超音波洗浄には次のような特長があります。

・洗浄品質の均一化
・洗浄時間の短縮化
・被洗浄物の全体の洗浄ができる(精密部品や複雑形状部品に優位)

超音波洗浄機の機種選定方法

超音波洗浄は汚れの種類に応じて、適切な洗浄液を選定し、超音波の物理的作用と洗浄液の化学的作用を組み合わせて最大限の洗浄効果を上げるようにすることが重要です。

1) 洗浄目的: 脱脂、研磨粉(バフ粉)、切粉(キリコ)、パーティクルの除去など
2) ワーク(被洗浄物)の種類: 材質、寸法(カゴを使用する場合はカゴの寸法)など
3) 形状の選定: セパレート型(発振器と振動子が分かれているタイプ)、卓上型、石英振動体型、流水式

※超音波洗浄機の導入時、どの工程までをシステムとして組み込むのかの決定も重要です。
 『洗浄→すすぎ→乾燥』最低でもこの3工程は必要です。

洗浄対象物からの周波数選定について

汚れのサイズ 洗浄対象の汚れ用途例 ワークへのダメージ 周波数 特徴
目で見える汚れ 油系
金属部品の脱脂洗浄
樹脂の脱脂洗浄
研磨粉(バフ粉)、切粉(キリコ)の除去




















28kHz 洗浄エネルギーが強いため、脱脂などの頑固な汚れの洗浄に使用される。洗浄液の効力を助ける役目を果たす。
10μm以上 ホコリ
液晶ガラスの受入時の洗浄
精密金属部品の洗浄
40kHz 28kHzよりワークへのダメージが少ないため、精密部品の洗浄に使用されることが多い。
5μm~10μm ハードディスク・CSP基板・精密金属部品・光ディスク・HDのヘッドの洗浄 75kHz
 ~
100kHz
40kHzでワークへダメージが出る場合に使用されることが多い。洗浄エネルギーも比較的強く、ワークへのダメージも少ないため、最近注目されている周波数。
1μm~10μm 化合物ウェーハ
ハードディスク
120kHz
 ~
160kHz
ウェーハなどの受入に使用される。ワークへのダメージが少なく、微細な汚れ除去が可能。
0.2μm~5μm シリコンウェーハ
ガラスウェーハ・ガラス基板
400kHz パーティクルの除去サイズが幅広く、様々は精密洗浄が期待されている。
0.2μm~1μm ガラス基板の最終洗浄、シリコンウェーハ(回路付)、ガラスマスク 1MHz 眼に見えないようなパーティクルの除去に使用される。ワークへのダメージも少ない。ウェーハ洗浄では、注目を集めている。
0.2μm以下 シリコンウェーハ(回路付)、ガラスマスク 3MHz 1MHzより微細なパーティクル除去の目的で使用される。粒子加速度としては1MHzより強いため、新たな洗浄として注目されている。

形状の選定

セパレート型

セパレート型の超音波洗浄機は発振器と振動子ユニットで構成されており、設備、用途や目的に応じてそれぞれの組み合わせを選ぶことができます。

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発振器と投げ込みタイプ振動子ユニットの組み合わせです。
お手持ちの洗浄槽で使用できます。

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発振器と振動板(フランジ)タイプ振動子ユニットの組み合わせです。
設備等への組み込み用として使用できます。

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発振器と専用の洗浄槽の組み合わせです。
設置が簡単ですぐに使用できます。

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Sタイプにヒーターを装備。
温水効果で、より高い洗浄力が得られます。

セパレート型超音波洗浄機の製品情報は産業用よりご覧ください。

卓上型

ワンボディーにまとめたコンパクトタイプで設置が簡単です。

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卓上型超音波洗浄機の製品情報はラボ・一般洗浄用よりご覧ください。

※大容量の卓上型超音波洗浄機の製品情報は産業用よりご覧ください。

石英振動体型

石英振動体に超音波を重畳させて、半導体ウェーハを洗浄します。

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石英振動体型超音波洗浄機の製品情報は半導体産業用よりご覧ください。

流水式

高周波超音波を水流にのせて洗浄するタイプです。

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流水式超音波洗浄機の製品情報は半導体産業用よりご覧ください。

すべての超音波洗浄機の製品情報は超音波洗浄機を参照してください。

製品の選定にお困りの際は

製品の選択には経験豊富な弊社担当者が丁寧にアドバイスいたします。また、販売店のご案内もいたします。
また本社ラボルームにて洗浄テストも行えます。こちらのお問い合わせフォームよりお問い合わせください。

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本社ラボルームにおいて、洗浄テストを随時おこなっております。
詳しくは、お問い合わせください。
また、当社製品をご検討いただく際の評価用として、貸出機もご用意しております。貸出機サービスは以下のボタンより、ご確認ください。

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