卓上型超音波洗浄機 【高周波】|W-357HPM
[超音波洗浄機 【 半導体産業用 】]

概要

高周波超音波洗浄機とは
 超音波周波数が0.7MHz~1.5MHzの間で使用され、キャビテーション効果を利用した洗浄システムではなく、洗浄液の分子加速度による洗浄効果を利用したシステムです。

キャビテーション効果での洗浄は、エロージョン(侵食)の発生によりワークの表面にダメージを与えてしまいます。シリコンウェーハ・薄膜等の洗浄においては、これが大きな問題となります。このようにダメージを嫌うワークにおいては、ダメージの少ないメガヘルツの洗浄が要望され、現在も半導体の洗浄においては幅広く利用されています。

洗浄品質としては、キャビテーション効果による洗浄のパーティクルサイズが数μmレベルなのに対して、メガヘルツによる洗浄は0.2μm以下を対象としています。

近年、パワーデバイス、MEMS、イメージセンサーなどの新たな市場において、メガヘルツ洗浄機が多く要望されています。そこで、従来より要望されていた『廉価(初期導入・実験機として)・小型卓上型・取り扱いが容易』な製品をご提案します。



特長
  • 少量の洗浄物や研究室等での洗浄を容易にしました。
  • 1MHzの洗浄で、精密部品に付着するサブミクロンのパーティクル除去が可能です。
  • 洗浄液の循環を可能にしたオーバーフロータイプです。
  • 運転時の不快な騒音がありません。


用途
  • 磁気ヘッド洗浄
  • ハードディスク洗浄
  • シリコンウェーハ洗浄
  • サファイアウェーハ洗浄
  • 半導体デバイス加工後の洗浄
  • 各種研究室やラボルームでの洗浄試験


仕様


型式 W-357HPM
定格出力 600W
公称発振周波数 1MHz
電源入力 AC200~240V 単相 50/60Hz 1200VA
寸法 
WxDxHmm
(突起部を除く)
外形 370x270x430
(ゴム足含む)
槽内  317x157x286 8インチウェーハ対応
質量 15kg
●使用液温度:5~50℃

 


注意マーク 高周波利用設備許可申請の届出が必要
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